扫描服装测试是纳米级防穿膜研究的特征能力标准所有HysitronTS系列和TIS系列工具提供辅助技术纳米缩进和抓抓
磨损模式由光栅扫描样本生成 并用用户预定义的特效扫描由单次或多次传递组成
通过应用已知强度并选择应用该强度的传递数,可使用实战成像技术测量磨损扫描期间去除的材料量
扫描服能在不同负载上穿戴并用图1显示的样本执行数件穿戴实验实验涉及数件个人穿戴测试,加载硬盘DLC膜涂层每一次磨损测试中去除的材料量使用实景成像测量(见图2)。
现场SPM成像提供精确定位也有助于纳米化和纳米布局,如图3所示研究中两种穿甲模式一种模式由5mx5m方程组成,另一种模式由1.25mx5m矩形组成模式小于1m分离,氧化层去除以有选择地显示基质