极端线性清理器
第二代光栅干净系统
生产CO2低温粒子清除
极端线性净化器
EL-C®系统用于各种应用,包括前端和后端清除生产和处理期间沉积的粒子,特别是从其他设备添加粒子EL-C进程干线并无沾染.屏蔽可按需频繁清洗,软粒子清除效率达50nm
CO2干洗
生产验证过程
先进技术节点操作世界多站点,包括waferf
满前侧
光学和EUV掩码清洗
特征几何相位比高达3:1
无损
50+CO2净循环
无损脆弱结构或SAFs+40nm无传输或反射效果无吸收器损坏
百分百
软粒子清除效率
低温Aerosol照相机支持全屏净化
微光片制造和掩罩处理中未知粒子污染一直并仍然是持续问题面罩材料越来越精密,地理特征继续萎缩,对更有效和免损清理技术的需要变得越来越重要。许多老式固定净化技术在软粒子清除方面变得不那么有效,并成为特征损耗源和屏蔽表层沾染源万博在线客服几年前,Bruker以极端液晶净化产品线形式引入新遮蔽干净化系统万博在线客服BrukerEL-C
全自动化或人工加载操作
- SMIF和Overhead轨迹兼容RFID/OCR/Barcode阅读器
- SECS/GEM兼容
- 易操作性高用户友好GUI
多屏蔽清除应用
- EUV光前端清洗
- EUV光反侧清洗
- 全遮罩净化
- 局部区净化
- 修复前净化
- 修复后净化
- 持久粒子净化
- 从其他设备去除加法
- 屏蔽净化
支持
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