OptimusTKD检测头
万博在线客服布鲁克高性能eFlashEBSD检测器序列现在可用OPTIMUS配置TMTKD检测器头部专为SEM上传输Kikuchi分片分析最佳样本检测器设计。检测器头部不单获取敏感度不匹配的Kikuchi模式,甚至提供SAED访问区电解像模式
方向映射至少2NM空间分辨率
横向磷屏与垂直标准搭建相比有两大长处:
- 一阶强信号
- 最小gnonoc投影扭曲
强度信号允许获取小孔径定位图从而改善空间分辨率。各种材料结果显示高端FE-SEM有效空间分辨率2NM或2NM以上。低加速电压下至5kV也是可能的帮助减少平均自由路径并增加基库奇分片信号的收成极有用分析薄和轻量级样本扭曲引起gnonoc投影是EBSD常见问题,在使用垂直磷屏时特别影响TKD分析
然而,ObsimusTMTKD允许完全匹配磷屏中心模式中心,从而使理想几何条件比标准EBSD几何条件更好基库奇模式最小反射带检测并随后编索引精度
OPSIMUSTM检测器头部工作位置
Argus公司TMFSE成像系统
欧巴马TMTKD配有Argus公司TM成像系统使光亮黑域像成像小到纳米尺度, 实际将SEM转换为低kVTEMArgus公司TM可使用变形材料显示单个变换和变换墙网黑域像图片显示边界平面位置和倾角3D信息
易用性
每一个现有eFlash检测器可安装OPTIMUSTMTKD检测头交换程序可在不到10-15分钟内由受过训练的用户轻而易举地完成EBSD和TKCD模式间易快捷切换欧巴马TM万博在线客服TKD特征Bruker高级碰撞保护系统:在不大可能发生碰撞时,检测器立即以10毫米/秒速度反射,大大降低任何损害风险欧巴马TM万博在线客服TKD检测器头无缝工作布吕克的TKD专业工具箱SEM包括TKD样本持有者XFlash®TKD/EDS同时测量和ESPRIT2分析软件套件EDS检测器序列
原始方向图无数据清洗显示fcc晶体中的双域地图速度140fps使用1nA探针流和30kvEHT从Gibeon铁流星
原方向图细节不清理数据显示anealing双域fc晶体6-9Nm宽
ObsimustmTKD检测器与OGUSTM直接电子检测系统对优异黑光场成像
颜色编码黑场图像从重变形纯AL样本获取插入显示单个错位
颜色编码黑场图像从重变形 Al合金样本获取高亮区显示三维细节粒子间边界平面的位置和倾角可见于样本厚度中
模式质量图和相应的原始定向图从FIB编译Au样本有效空间分辨率至少3nm
颜色编码黑场图像取自FIB制作SIC样本图像描述重对结微结构 一些双胞胎宽度小于10纳米
亮字段(左侧)和对应黑场图像(右侧)同时从重变形 Al合金样本中获取显示粒度边界有斜坡
