AFM模式

DataCube模式

多维纳米级信息

完全解决纳米电特性

DataCube模式扩展能力,例如峰值TUNA峰值KPFM帮助获取多维数据立方体对材料科学家和工程师来说,这打破了长期效率与特征描述屏障这些新能力同时捕捉高密度数据立方体的纳米级电气和机械特征,先前单量无法实现

相关多层电气谱

维度XR数据立方模式提供多维纳米级信息

DataCube模式使用FAST工具卷执行每个像素中的强距离频谱,并使用用户定义的“正常时间”。使用高数据捕获率,多电量测量沉积时间,结果产生电子和机械像素每像素光谱典型强距离光谱以40赫兹斜坡速度测量,每像素100ms居住时间,提供单项实验的全面特征描述,商业AFM中未读到并发地形学、机械学和多维电学信息这些数据现在可作为一项例常AFM测量实现DataCube模式使多维数据立方以纳米尺度与复合数据相交能力使强效数列新模式

DataCUBE-TUNA

传导AFM结果受应用样本电压影响,显示材料或设备重要性能转换DCUBE-TUNA允许同时获取纳米机信息并用多采样电压单度测量,并搭建稠密数据样本信息立方体唯一模式提供样本传导性全景,细节如传导性类型(Ohmic非Ohmic,Schottky等)和屏障高度

以maghemite收集的当前图像(Gam-Fe2O3)同时将采样电压从-2V提升到+2V不同的粒子有不同的传导机制,通过扫荡电压将数据看成“切片”。

DataCUBE-SCM

扫描电容显微镜提供方法直接测量活性载体精度DCUBE-SCM同时获取纳米机载信息技术为观察dC/dV放大和dC/dV相位变化和交接位置移位提供独特的解决办法通过生成数据立方体,研究者可观察更多关于氧化物厚度、氧化物荷位、阈值电压、移动离子污染和界面陷阱密度的信息

slips通过dc/dV放大从-2V调高2V显示pnp交叉剖面变换电压数据表示N.Chevalier开发MariolleUGrenoble Alpes,CEALETI法国
dc/dV放大图像采集两个相邻np晶体管 SRM内存依赖电压连接位置与预期行为匹配偏差缺陷仅在特定电压中可见扫描3x3um数据表示N.Chevalier和DMariolle大学Grenoble Alpes,CEA,LETI,法国

DataCUBE-PFM

Piezo响应微镜技术映射出 纳米尺度样本反电效应DCUBE-PFM同时获取纳米机信息及数据立方体中PFM振荡/相位光谱,用单数据集显示单个域切换电压DCUBE-PFM还克服手工艺品、样本损耗以及与传统相关数据分析复杂性联系人模式方法论

CCUBE-PFM高频图象(左侧)和光谱图像(右侧)PFM放大法和PFM相位法偏差从-6V到0V切换电压可为单个域提取

DataCUBE-CR-PFM

DCUBEPAZE响应显微镜结合联系共振提供CCUBE-PFM的益惠,附加益益是在每个像素提供频率坡道,提供全频谱和接触共振峰值敏感度

CDUBE-CR-PFM采样收集的数据显示地形学、PFM触角共振量、PFM相位数和CR峰值数(当材料不显示pizo电响应时为0)。PFM放大相向频谱和对应力谱显示数像素

DataCUBE-SSRM

扫描阻抗显微镜用于映射倾斜半导体中多载量集中的变异DCUBE-SSRM同时获取纳米机信息并单量测3D载波密度映射生成数据立方体提供完全特征分析,包括纳米地形学、机械信息学和日志阻抗光谱学外加IV测量显示传导性 或Ohmic非Ohmic Schottky

图像序列显示DataCubeSERM多维图标XR帮助绘制组件分布图并发现粒子变异粒子DataCube模式中的模数图清晰辨别硬金属氧化粒子和周围软绑定物,同时获取传导性图显示碳黑分布不均靠近图像顶端的粒子被认为不为碳黑覆盖,从同数据立方取出的一系列传导图像确认粒子为死即非活动范围操作电压

DataCUBE-sMIM

扫描微波微镜成像提供阻抗电容部分地图DC/dV和dR/dV数据-用户定义样本电压使用 DCUBE-sMIM可同时从各种样本电压中获取相同的属性-单扫描-并同时获取全图光谱还显示额外信息,例如传导类型(Ohmic、非Ohmic、Schottky等)、氧化物厚度、氧化物加荷、移动离子污染和界面陷阱密度

强制对战时间与能力smm-C时间图二像素对立大写典型S形C-V曲线在百米沉积时间获取,N型和p型均可见图片显示3种不同样本电压dataCube双楼梯剖面图Si样本不同电压下n类型和p类型区域对比敏感度不一